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千禧年半导体生存指南

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第一百三十一章 光刻机技术路线(2/2)
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用于直接序列扩频通信的模拟-数字转换器。

    你可以先看看,今天我都会在这,我们有什么问题随时沟通。”

    ......

    “林伯,你好,一直听胡教授提起你,这次你来加州我想着请你吃顿饭。

    同时也有问题想咨询你。”

    周新请林本坚在旧金山一家著名的越南餐厅吃饭,林本坚是出生在胡志明市的华裔。

    林本坚对周新约他一起吃饭很纳闷,因为他和对方毫无交集。

    林本坚对周新并不陌生,当时周新刚来阿美利肯的时候,林本坚来旧金山开会的时候就听胡正明提过,他从燕京大学招了个学生。

    再后来听到这个名字,是从媒体上,比尔盖茨入股拳头游戏的新闻里,又一次出现了Ne

    光刻机中的光源(KrF或者ArF)照射到光掩膜上。

    光通过图案的开放区域,被阻挡的部分与图案相对应。

    然后,光通过投影光学系统,该系统将图案缩放并聚焦到硅晶圆上涂有光刻胶的表面。

    经过曝光后,光刻胶中的光敏材料发生化学变化。

    在阳性光刻胶中,曝光区域变得更容易溶解;在阴性光刻胶中,曝光区域变得更不容易溶解。

    将硅晶圆浸入显影液中,溶解掉光刻胶中发生化学变化的区域。这样,光掩膜上的图案就被准确地转移到硅晶圆表面的光刻胶上。

    光刻胶图案形成后,通过刻蚀、掺杂或金属沉积步骤将逐层构建出完整的芯片。

    在没有线上百科,不对,现在已经有Quora百科了,总之能够准确说出ArF和KrF证明周新在光刻机领域还是有比较深入研究的。

    毕竟很多光刻机领域的从业人员都不知道还有ArF这条技术路线。

    林本坚说:“ArF的波长是193n而KrF光源的波长是248n较短的波长有助于实现更高的分辨率和更精细的图案。”

    周新问:“但是ArF他在具体处理更小的制程节点的时候,会出现更多的线性波动和不规则性。

    虽然ArF波长更短,但是它的不可控性更高。

    这对于工业化生产来说是大忌。这才是为什么尼康也好,ASML也好,在尝试过ArF之后,都不愿意继续朝着这个方向投入研发成本的最重要原因吧。”

    周新话音刚落,林本坚脸色大变,周新知道ArF和KrF,这他能理解。

    因为这些都是发表在公开期刊上的内容,但凡对光刻机感兴趣的人,都有机会阅读到。

    但是周新能够准确说出不往ArF方向投入的原因,即便从业人员,都没有办法知道的内容。
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