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材料材料在昨天韩元就已经处理好了，今天需要做的是给基底做第一层离子注入镀层。
使用的方法自然是‘电热-离子渗透法"，在没有高能离子注入机的时候，这种方法是目前最优的选择。
本来这一步是不必放到无尘工作室来处理的，在普通环境下就可以。
只不过在进行过程中，需要有人时刻盯着时间和给离子溶液添加材料。
而昨天韩元在制造基础材料，根本就没有时间来管，所以只能放到今天来处理了。
一边处理氮化硅基底，韩元一边借助之前才开发出来不久的‘一心多用"能力处理其他的材料。
在基底之上的‘有源层"，他使用的是磷化砷铟材料。
相对于其他的砷化物来说，磷化砷铟复合材料的毒性较弱，而且聚光线性更强一些。
最重要的是，磷化砷铟复合材料是一种固溶体。
它在特定条件下保持液体状态，而在接触氮化硅基底材料及上面的离子镀层后可以凝固成固体，形成一层厚度均匀的镀层薄膜。
这就是之前直播间里面专家询问‘有源层"和‘薄膜层"厚度如何控制的答案。
如果不是掌握了这些，韩元怎么都不敢说自己能制造出来顶级的‘分布式布拉格反射镜"。
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