阅读提示：为防止内容获取不全，请勿使用浏览器阅读模式。
光刻机高端市场被生产8英寸晶圆和350n程工艺的尼康光刻机抢走，如今只能在中端市场与佳能、日立、Ultrate制程工艺的半导体生产线……
去年底，GCA在研制适合8英寸晶圆和500n程工艺的磁悬浮式双工作台系统的过程中，由于在光刻机中安装了一套ZeissSMTAG生产的新一代光学系统（耗资275万美元），适合8英寸晶圆和500n程工艺的磁悬浮式双工作台系统没有研制成功，但光刻机样机制程工艺突破500n达到350n
意外惊喜！
这款8英寸晶圆和350n程工艺的光刻机，被命名为GCA3500A光刻机。
GCA3500A光刻机追上了Nikon3500A光刻机，由于安装有磁悬浮式双工作台系统，制程工艺精度和生产效率明显超过了Nikon3500A光刻机。
GCA3500A光刻机突破了困扰了G制程工艺光刻机的瓶颈！
孙健吩咐艾德里安申请公司股票停牌，邀请Seth专家组进行技术认证，拿到认证鉴定后，GCA3500A光刻机制造技术分别向美国专利局和世界专利局申请公司发明专利，邀请全球晶圆公司参观GCA3500A光刻机样机。
由美国政府每年财政拨款1亿美元资助的Seth，宗旨就是提高美国国内半导体产业的技术。