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微电子研究所李院士的办公室里，除了李坚强、徐端逸和牧乔之外，其余人全都被赶了出去。
李院士向走廊上看了一眼，然后关上房门，不等坐下，他就迫不及待地说道：
“现在没外人了，小牧同志，赶紧说一说你的解决方案！”
“其实吧，对于这个解决方案，我也是听别人说的。”
徐端逸比他更急。
他主持研制的分步投影光刻机之所以下马，主要是因为受到国外同行的打压，不能产生市场效应和经济利益，没有资金维持下去。
但还有一个原因，却是行业外的人不知道的。
那就是光刻机光源陷入了193纳米的技术问题上，无法取得根本性的突破。
所以，在牧乔说出利用光的折射原理来解决光源波长问题时，徐端逸犹如“一语惊醒梦中人”，心中顿时豁然开朗，巴不得马上就开始研究工作。
同时，他也对牧乔所说的第二个解决方案充满了好奇。
齐远思一宣布散会，他就迫不及待地跑来找牧乔来了。
牧乔笑了笑，在两人急切的目光中，继续说道：
“我的第一个解决方案，是利用了光在液体中的折射原理，对于光源本身没有做出任何改变。”
“而另一个解决方案，就是改进光源！”
“用什么来替代现有光源？”徐端逸迫切地问道。
他是光学微加工技术方面的专家，自然知道光刻机改进光源的重要性，但用什么来替代目前的光源，他现在心里却还一点数都没有。..
牧乔并没有直接回答他的话，反而问道：
“徐教授，你们研制出来的分步投影光刻机，用的是什么光源？”
“我们用的是高压汞灯，经过滤光后使用其中的i线，波长最短能达到365纳米。”
牧乔沉声道：
“光刻机的每一次进步，其实就是光源的改进，据我所知，目前国际上的光刻机已经发展到了第四代。”
牧乔竟然还能清晰地记得，上辈子无意间看过的一篇关于光刻机发展的科普资料。
虽然他一直记忆力都非常好，但好到这种程度，却还是让他感到有些意外。
难道这就是他重生带来的金手指？
心里这样想着，他嘴里却没有停下来：
“第四代光刻机采用波长193纳米的arf准分子激光作为光源，将最小工艺节点提升到了65纳米的水平，在光刻工艺上也采用了扫描投影式光刻，以扫描的方式在硅片上实现曝光。”
徐端逸团队研制出来的分步投影式光刻机，虽然号称接近国际先进水平，但实际上还有着不小的差距。
拿光源来说就差了两代。
这点他们很有自知之明。
但知道也没办法，没那个技术，只能“望机兴叹”。
其实，早在70年代，米国就研制出了准分子激光器，并在80年代将它用于钻石加工和半导体光刻工艺中。
1986年，贝尔实验室首次将准分子激光应用到分步投影光刻机和医学上。
但国内的光源研究却还停留在高压汞灯的阶段。
“如果能将准分子激光和浸入式工艺相结合，波长将会缩短到134纳米，最高可实现6纳米制程节点。”
牧乔所说的浸入工艺，就是将镜头和硅片之间的空间浸泡于纯净水之中，由于纯净水的折射率为1.44，所以arf加浸入技术就能得到134纳米的波长。
这是后世已经实现的技术，但李坚强和徐端逸二人却认为这只是牧乔想象之中的最好结果。
不过，只是想一想，都让他们格外兴奋。
但兴奋过后，接踵而来的就是沮丧。
“我们连准分
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