阅读提示：为防止内容获取不全，请勿使用浏览器阅读模式。
等林本建出来，三人边吃边聊，卫向东正式向林本建发出邀请，希望他到大陆继续研究紫外光（EUV）光刻，将来在众芯科技专门成立一个部门由他负责，同样可以给予众芯科技的股份。
“林先生，如果你还有什么要求，我们都可以谈。”卫向东的态度很诚恳。
林本建沉默了下开口说道：“卫先生，或许你不清楚，研发13.4纳米的极紫外光（EUV）遥不可及而且耗费巨大，现在光刻机还卡在193纳米这个这个阶段。”
“我知道，极紫外光（EUV）是光刻机发展的未来，而193纳米这道坎终将会被迈过。”卫向东笑回答道。
林本建听了笑了起来：“卫先生，你是个局外人，竟然比我们这些局内人还充满自信？”
“或许正是因为我是个局外人，所以和你看问题角度不同，光刻机停留在193纳米已经好几年了吧？所谓厚积薄发该到突破的时候。不是有一种叫什么浸润式光刻吗？我看那个法子就行。”卫向东说道。
“浸润式光刻？卫先生你也认为浸润式可行？！”林本建的声音突然变得激动起来。
不是我认为行，是因为历史最后证明这个法子行！
卫向东实在不明白这个林本建为何如此激动，旁边的张如京才告诉他，在80年代末期，林本建就提出随着芯片精度越来越高，光刻机的精度最终会遇到瓶颈，可以用浸润式原理解决这个问题。
不过当时业界正要准备1000纳米的量产，后来林本建又帮IBM解决两个世代以后的技术，也就是500纳米；那时还有很多方法可用，不需要浸润式这种颇为复杂的办法。
直到九十年代初期，光刻机的研发卡到了193纳米，包括IBM、佳能等大型公司，都是朝着研发干式157n刻机的道路奋力前进，根本没有理睬到林本建的这个冷门的浸润式！这让他很是沮丧。
所以，今天从一个外行嘴里说出看好浸润时，林本建感到有些激动。
“卫先生，你怎么认为浸润式办法可行，如何液体穿透率不高问题？”
面对林本建急切的发问，卫向东愣住了。
我懂个屁啊......
我只不过是穿越前在网上无聊时候看过一些这样的文章，知道几个术语而已何况又过去了这么多年？
哎.....
早知道做做功课，在网上查查这方面的资料就好了，这不又到了2000年吗？已经有网了。
卫向东心里暗暗后悔。
看到卫向东略微尴尬的表情，林本建这才意识到，对方只是个企业家，科技方面纯粹就是个门外汉！”
没准这个浸润式也不知道从哪里看到的资料，觉得好玩而已。
林本建顿时有些失望，刚准备结束这个话题，突然又听到卫向东蹦出一句话：“可以用水呀......水不是很透明吗？”
“用水？水在193纳米波长的折射率是得到1.46，但问题在于157纳米波长下水的折射率是量不出来的，因为不透光......”林本建立刻反驳。
“为啥非要用157纳米？那就用193纳米下的折光呗。”卫向东小心翼翼回答道。
“你不懂，现在的主流是157纳米......”林本建随口回答了一句。
“林先生，你忽略了一点，水的折射率在一般的波长是1.3多。所以在一般波长下用水做浸润式的介质只能改进30%多，但若改成现在可用的最短波长193纳米，1.46的折射率特性，水能把解析度增加46％，”
张如京突然插话进来，他是搞芯片制造的，当然对光刻机熟悉的再也不能熟悉，现在听到两人的对话，心里顿时有了启发，插话进来。
“嗯？”
张
本章未完，请点击下一页继续阅读》》