第435章 芯片自研自产！收购中芯国际的晶圆厂？(4/6)
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持华为？
就是因为华为有底蕴，有能力，有技术，能做到其他企业做不到的突破。
同样，星逸科技也展示出了恐怖的实力。
苹果、三星、高通都做不到的基带集成，星逸半导体做到了。
中芯国际那么多年都搞不定的40纳米工艺，星逸晶圆厂搞定了，试产良品率就高达89%，后续只会更高。
华为都做不到的芯片自研自产，星逸科技做到了，还性能卓越。
如此成绩，全球都会震惊。
高层自然会高度关注，大力支持。
“王董，你放心，用不了几年，光刻机会突破，光刻胶也会突破！”赵老郑重道。
这年头的光刻机还是DUV光刻机，不像EUV光刻机那么难如登天，自然好突破。
同样，光刻机也只是28纳米，20纳米的中端光刻胶，不像前世5纳米，3纳米纳米的高端光刻胶那么困难。
说白了，当下和欧美的差距还很小。
因为王逸之前不知天高地厚的提议，官方提前布局，提前攻坚，完全可以在差距小的时候，提前追赶上欧美，甚至弯道超车。
前世，落后得太多。
那时候，欧美EUV都更新了好几代，并且投用了多年，咱们才奋起直追DUV光刻机，自然难。
可这一次，大家都还是DUV，那就简单了。
至于阿斯麦的EUV，目前还不成熟，正式投用还得好几年。
因为王逸的提议，提前追赶，前途可期。
“那再好不过，我相信国家机器的力量。”王逸笑说。
像是DUV光刻机，星逸科技要做，十年都难。
官方要做，有国家机器全力支持，五年就差不多搞定14纳米的DUV。
后续不断迭代升级，逐步提高精准度，达到10纳米，7纳米，不在话下。
毕竟阿斯麦2003年推出了第一代浸没式DUV1250i，最初也是造45纳米芯片的。
后续不断对DUV光刻机的光源、光学系统、套刻精度、温控等方面，进行全方位升级。
这才逐渐实现了32-28纳米工艺，以及后续的20-16纳米工艺，再到10纳米节点、7纳米节点，以及十年后的5纳米节点。
前世DUV国产光刻机之所以迟迟不量产，主要原因就是要求高，起步高。
若是只能量产45纳米，那意义不大，推出了也没多少企业用。
十年后，缺的是高端光刻机，不是45纳米的光刻机。
但要想量产7纳米，甚至5纳米，那难度就大了，国产DUV都得不断升级。
因此，国产DUV迟迟不推出，就是在憋大招。
不过这一次就无所谓了。
起步早，能量产28纳米，就算是非常成功。
甚至量产45纳米，王逸都会疯狂买买买。
毕竟未来五年内，45纳米都是主流芯片。
而28纳米和20纳米，都只是少量的旗舰芯片，只占少数。
相反，更多的芯片都是物美价廉的45纳米。
国产光刻机若是能量产45纳米，都会很有市场。
但若是十年后才推出45纳米的国产光刻机，那就难了。
毕竟十年后的45纳米，是真的没法用。
赵老话锋一转：“不过你们低调归低调，但该有的奖励一点不少。”
“今后星逸半导体的芯片，全部免税。”
“星逸半导体盈利前五年，全部免税！”
“此外，之前小秦和你对赌，2014年年底前，星逸半导若是能成功量产40nm，良品率超过85%，再送一个12寸晶圆厂。”
“结果你们提前实现，
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