第171章 里程碑，史前第一台70nm光刻机！(2/2)
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件事邱明祥也是知道的，解释道：
“ib在89年率先宣布他们成功在8英寸晶圆上制造芯片，工艺制程将精细到365n，他们的总裁呼吁光刻机厂商研发精度更高的光刻设备。
并且公开保证，谁第一个造出来，ib将优先购买他们的光刻机！”
王磊眼睛一亮，他正在为光刻机卖给谁，买主不就这么来了吗。
“这一次展会，一定要邀请ib的人来观摩观摩，要知道我们的光刻机精度可是提升到了70n！”
远远超过了ib所要求的365n。
王磊很期待看到一群老外惊讶错愕的眼神。
几人都不由的相识一笑。
“老板，只要拿下ib，我们的市场占有率可以提高到5%！”
见拜尔斯有点飘的样子，王磊还是忍不住敲打道：
“拜尔斯，虽然我们目前制造出了远超同行的光刻设备，但远远没有到可以大意的时候，我们要尽早将光源波长提高到157n！”
光刻机技术的升级，可以简单的看作光源波长的升级。
通过用更高级的曝光光源，来支撑技术进步到下一代。
为了追求更高的分辨率，光源波长从最初的365n，到248n，再到如今pas5500使用的193n。
据王磊对光刻机发展进程的了解，想要从248n进化到193n并不是最难的一步。
用不了几年，尼康、佳能、以及美丽国的gca都会相继走到这一步。
最困难的还是向157n的技术升级。
所有的大厂商都被卡在这一步上。
谁先迈出这一步，便会奠定一超多强的格局，彻底成为光刻机行业的霸主。
拜尔斯也没有预料到王磊的野心会如此的大，刚完成了技术升级，又开始琢磨着下一代光刻机。
“你放心，不管研发中遇到多少困难，我都会全力支持你们的研发！”
说这话的时候，王磊却将思绪飘到了台积电。
那里有一位龙裔科学家，堪称半导体“鬼才”一般的存在。
正是他提出了一种较为大胆的理念——浸没式！
他创造性的提出用水作为曝光介质，光源波长还是用原来的193n，但通过水的折射，使进入光阻的波长缩小到134n。
以前的干式法中，曝光介质用的是空气。
它们的区别在于折射率，193n光源在空气中的折射率为1，在水中折射率为1.4。
这也就意味着相同光源条件下，浸没式光刻机的分辨率可以提高1.4倍。